无缝对接Control X，质检更轻松
新版本下，无需关闭Artec Studio即可为部件和产品进行质检。 扫描质检工艺一气呵成，无需中断，无论是装配线、装货码头还是其他地方，都能让您更快完成质检目标。

无与伦比的Control X质检工艺就在指尖
扫描完成后，在工作面板上选择需要检测的网格，单击Artec Studio界面中Inspect in CX，选择要用的Control X检测模板，检测报告即刻自动生成。

批量检测报告
遇到需要批量检测零件或物体的情况？ Artec Studio也能搞定。 选中所有要检测的网格，无论多少，再选中合适的Control X检测模板，点击Go，多份报告即可瞬间出炉。

质检时网格至CAD对齐处理速度提升8倍
准确对齐是扫描至CAD检测工作的重要基础。 现在，点击一下，Artec Studio即可精准无误地将网格数据与其他网格、CAD参照模型对齐，且速度提升高达8倍。 有了这项强大功能，就能在不牺牲品质的前提下，省下更多质检工艺的宝贵时间。

表面距离图进一步提速
网格对齐至CAD模型或其他网格后，表面距离图的质检流程将会更快，复杂CAD模型的距离测算时间比上一版本提速70%。

适合质检的CAD新功能
随着时间的推移，您对质检要求越来越高，对准确度、处理量、处理速度都提出了更高的要求，那么相应的技术能力也需要相应提高。 Artec Studio 16正是如此，为您新增扫描至CAD辅助功能。

严谨准确的质量保证与检测
完美对齐CAD基元，易如反掌，让您的质检工艺达到所需的计量级精度，无论对比何种扫描部件或物体，都能和CAD参照模型进行微米级别的精度对比。

从选择到再拟合，都能精准约束
现在，您可以在基元间设置约束条件，如平行、垂直、同心关系，进一步优化您的质检效果。 只需选中已拟合的两个基元，再根据基元位置，选中所需的约束条件。

测量方式与平面功能优化，锁定精准
在质检工艺中，精度提升和功能优化都不能以牺牲速度为代价。 也就是说，您的每一次质检都能收获最佳效果，且速度飞快。

点到面的精准测量
Artec Studio让您快速测量点到平面的垂直距离，立即精准算出所选区域的厚度或工程项目的各项尺寸，轻松完成产品质量目标。

拟合算法优化，断面定位更精准
以构建/拟合平面为基准，沿法线方向偏移，或先旋转再偏移，为任意所选位置计算断面，断面定位更精准。

适合逆向工程的全新CAD基元等工具
扫描完成后，要制作CAD模型？ 这时，软件中的那些小细节才是大亮点。 Artec Studio 16新增了一系列实用工具，让您的逆向工程次次实现优质品质。

为逆向工程量身打造的自由形态基元
这项工具可帮您轻松进行复杂部件的逆向工程，为曲表面定制拟合基元。只需通过3D画笔或全新分割画笔，指定想要和自由形态基元拟合的几何即可。您还可以调整内补白、点数、样条顺序定制全新基元。

支持环状物体逆向工程
除了全新自由形态基元工具外，还新增了一款实用形状：环形。环形能用于汽车、航天等诸多行业的环形物体逆向工程，例如轮胎、垫圈、O型圈、救生圈等等。

逆向工程必备工具：超精准约束
制作符合要求的精准CAD模型前，每个逆向工程都离不开精准对齐的基元。现在，Artec Studio即可实现这步操作。将基元拟合至扫描后，可根据已知空间位置，为其设定约束条件。选定平行、垂直、同心、成角、同轴约束关系，完美匹配，可随时导出至CAD。

想您所想的选取工具：分割刷
逆向制作部件或物体时，可快速选中所有适合拟合基元的部分，操作简单。分割刷将分析整个表面，而非所选位置，并计算所有特征，以确定其准确形状，无需手动一一选中。

迅速启动逆向工程
随后点击一下，即可完成拟合，可直接导出至CAD，作为参照工具创建全新3D模型。

直接导出至SOLIDWORKS
此外，您还可以将所有基元直接导出至SOLIDWORKS，没有Geomgaic for SOLIDWORKS插件也无妨。

适合逆向工程的CAD平面切割与缩放至边界功能
毫无疑问，专业逆向工程设计工艺需要典型断面才能将扫描制作成CAD模型。而在新版本中，这一步进一步简化。现在，您可以将平面缩放至边界，全平面切割只需单击一下即可。

根据需要切割平面
在Artec Studio 16中，您可以在基元平面处切割平面并制作断面。此外，还可通过平移功能，使切割断面偏离已有平面。

为逆向工程工艺找到精准起点
根据平面与基元位置关系进行约束后，即可轻松导出至CAD，作为参照元素，制作出栩栩如生的高品质3D模型。

缩放至边界
现已优化平面切割流程。缩放至边界功能开启后，平面呈无限延伸状态，形成从前往后穿过整个物体的断面。功能关闭后，只有可见边界内的部分，可用于断面的创建。

HD数据采集速度提升一倍
现通过Eva和Leo HD模式，项目速度可提升一倍，处理工艺同样明显提速，耗时更短，成就更多。

指定Eva HD重建的时间与位置
Eva HD扫描如今变得更简单，您无需立即重建数据。原始HD数据可直接保存在项目中，自选处理时间与位置：扫描完成后或是晚些时候。有需要，也能更换性能更好的电脑再处理！

多次重建，只为最佳效果
处理Eva或Leo捕获的HD扫描数据时，您可在不同设置下多次重建，找到符合分辨率要求与项目规模的最佳效果。另外，您可随时进行，而不只是在导入时，且次数不受限。自然，最终效果会更清晰，且获取数据的流程也更快。

效果更清晰
针对Eva和Leo的全新AI驱动HD模式持续为您带来无懈可击的扫描成果。这项功能提升意味着三维扫描分辨率更高，效果更清晰，细节更丰富。

Leo HD项目处理更快，且瘦身20%
HD项目现在瘦身20%！HD数据处理速度更快，存储和传输的数据更少。更令人激动的是，项目在处理的同时即被压缩，没有干扰，也不会丢失数据。

适合Leo的高分辨数据SD卡
全新加密文件格式允许您将Leo的高清数据存储在SD卡上。无论何时修改HD设置，都无需再从Leo导入项目。将HD原始数据保存在SD卡上，就能随时随地快速访问所需数据。您也可以将所有HD项目导出至SD卡上，再导入至Artec Studio中，无需再连接至Leo，简单方便。

项目加载速度提升10倍，工作流速度更快
得益于新软件结构，项目加载速度提升了至少10倍，也就是说平均一个项目的加载时间不到10秒。您也不用等待项目扫描全部加载完毕，可立刻开始处理数据！

工作进度自动保存
所有修改都能在工作时自动保存。不仅为您省下手动保存的时间，您的操作也多了一分保障，项目会在后台持续更新。撤销保存修改，快捷键一按即可。

智能RAM优化器自动加载基本数据
处理大型数据集时，不用再担心基本扫描数据的加载和卸载，也不用怀疑是否有足够的RAM来处理。Artec Studio会自动卸载不在使用的数据，加载您需要的部分，让工作流更快更顺畅。

独立扫描整体配准更灵活
新功能提升后，处理独立扫描就会更简单、更轻松、更快捷。一键单击，即为独立扫描进行整体配准，无需一份一份单独处理。或者，您也可以独立进行整体扫描，随后再一键合并。该功能帮您减少了好几个手动操作步骤，节省大量时间，对于大型项目或特征不明显的扫描数据而言，更有用。

细节更细腻，整体大升级
除了上述罗列的功能外，使用AS16时，您会发现很多“科技改变生活”的新增功能，多角度提升工作流。例如，Object Highlight功能在鼠标悬停于某物体上时，在渲染中突出该物体。改进追踪算法，减少远距离带来的累计误差。循环扫描时，能实时查看进行中的算法设置，改进快速网格简化的纹理简化功能，以及默认“大于物体”的断面。

菜单导航
菜单层次分明，结构整齐，可轻松访问您所需的特性和功能。需要时迅速找到，不用时迅速折叠。